年代:我有一扇兩界門

第621章 外國人的錢賺起來更香

不得不說,被人請過來待遇就是不一樣。

食堂的小灶炒了四個硬菜,而且廚師的手藝相當的好,一點也不比外面飯店做的菜差。

一看就是平時給廠裡領導做飯的。

就是這廚師是四川人,炒的菜都有些辣。

好在他吃的習慣。

味道不錯。

吃了午飯,王青松便和馬輝打了個招呼,離開了廠子。

出來以後,沒著急回去,而是直接去了港島。

因為這邊的工作,平時都是晚上才過去,很少白天的時候過去,除了週末的時候偶爾去一趟。

……

重新回到港島,人則在在廠區外一棟樓房的車庫裡。

為了方便,特地在廠區附近買了一棟兩層的樓房,加蓋了一個超大的院子。

就是為了以後卡車停放在這裡方便。

開著車離開車庫,直奔工廠廠區。

兩年的時間,工業區的第一期已經建設完成,綠化也都已經種上。

後面的二期也已經開動,這一次,用的是全都是自己建築公司的人。

至於剩下的三期還要後面建設。

車子開到廠區自然是順利的進去了。

直接去了之前的電路板車間,只不過現在電路板車間已經搬遷到了其他樓。

現在這棟樓完全就是手機業務的大樓。

為了防止機器出問題。

在他的指導下,又重新裝了一套系統,如果有問題,就可以切換過去。

核心的東西全都是由李思穎在負責,不讓其他人插手。

“阿軒哥!”

看到他過來,李思穎笑呵呵走了過來:“怎麼今天白天有時間了。”

“事情忙好了,就過來一趟,還好吧!”

“嗯,還好,有些問題,我會弄,一會我把東西給你!”

王青松笑著點點頭:“嗯,待會把東西給我,上次的問題影片我轉給你!”

既然讓李思穎接觸電腦,很多事情就輕鬆了很多。

裝置有問題,只需要李思穎說明情況,他去找楊懷瑾找對應的影片就行了。

現在李思穎除了裝置,還在學很多東西。

只不過因為工作原因,學習的進度有些慢。

這丫頭也很努力,沒有糊弄。

李思穎笑著答應了下來,隨後找出平板電腦,將資料用藍芽傳了過去。

王青松又在大樓裡溜達了一圈,這才拿著李思穎給的問題清單離開了大樓。

計算器車間沒什麼好看的。

就是一群普通按照要求焊接,只要掌握好原材料別丟了,其他的問題不是很大。

看了看,又去了電路板的車間。

此時唐修遠幾人正在那裡研究控制面板的上的內容。

看到王青松過來,打了個招呼。

詢問了一下工廠的進度,唐修遠這才說道:“李先生,內地傳來了訊息,希望能引進一套電路板的生產線!不知道行不行?”

王青松聞言想了一下笑道:“可以!不過有一點啊!你們的人可不能給我跑光了啊!”

當初建設這個工廠的目的其實有兩個。

一個是為了賺錢,還有一個原因則是給內地實驗用的。

唐修遠聞言笑了笑:“放心好了,不會的,我們來了已經這麼長時間了,有些人需要輪換回去,這次也是和你說一下,以後我們會定期輪崗一部分人,同時也會保證你們這邊的工廠能正常運轉!”

王青松笑著點點頭:“行,那你們自己看著安排,需要幫忙的話,跟我說一下。”

現在電路板的原材料除了覆銅板在這時期太貴了。

其他的都能在化工廠找到原材料。

唐修遠嗯了一聲:“暫時沒有等有需要了,我們會跟你們說的。”

“好!”

王青松答應了下來。

這些人來了有接近一半年的時間,也是時候回去一部分了。

而且中間又來了一些人。

至於生產線,他現在已經完全放開了。

只要把控好裝置,別被人弄走拆開研究,那麼就不擔心這些人能知道什麼。

哪怕是真正的科研大佬來了也抓瞎。

沒辦法,這些機器系統,那些大佬現在都看不懂。

隨後詢問了一下生產情況,他這才離開去了研究所。

現在華科半導體的經營事情,斯波克基本上都交給了副經理,他則是主持研究所的事情。

不過每天他還是會去公司。

老闆兼研發的人才多了去了。

只有研究所上了正軌以後,才不需要老闆上手。

斯波克正在一張巨大的圖紙上寫寫畫畫。

看到他過來也只是笑著招呼一聲,又低頭工作了起來。

王青松在那裡看了一會。

斯波克這才抬頭:“boss,找我有事情,還是說能給我新的靈感?”

研究所裡的港島員工看到他過來,自然也是過來做翻譯。

王青松聞言笑了笑:“我可沒有!樣機試驗怎麼樣了?”

距離他給的資料已經過去一年時間。

裝置已經制造出來了。

或者說,半年前就已經制作出來一套光刻機裝置。

但是這臺光刻機有著這個時代光刻的通病。

那就是成品率。

主要原因自然是因為光掩膜的使用壽命。

現在是半導體的遠古時代。

很多後世的軟硬體這個時代都沒有。

和後世的用計算機和eda軟體設計不同的是,這個時代的光掩模真的是靠人工手搓的。

初代工程師先在方格紙上用彩色鉛筆繪製好積體電路版圖。

再用精細的刀片在光掩模母版上,徒手把電晶體和電路連線一點一點刻出來。

最後用母版圖形,用相機縮小50到100倍。

才能用一張用來做光刻的光掩模。

和這種光掩模匹配的自然是接觸式光刻機。

這種光刻機只會簡單粗暴的將光掩模覆蓋在矽片上。

掩模塗層與光刻機塗層直接接觸,再打光照射,完成曝光。

但是這種光照方式的失敗率和成本都很高。

因為膠體本身及其粘附的浮塵顆粒,不僅影響效果,還會對光掩模造成損傷。

10張晶片才能用有一張能用,還會加速光掩模的使用壽命。

成本是相當的高。

後來按照他給的資料,又在接觸式光刻機的基礎上,加了一個水平和垂直方向上可移動的平臺。

以及一個測量光掩模和晶片之間的顯微鏡。

讓兩者在燒錄的時候,靠近又不接近,解決了之前的問題。

也就是接近式的光刻機。

但是這種光刻機解決了之前的問題,但是精度下降。所以這兩款產品出來以後,他直接就放棄了。

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