老闆工作間。
一個又一個的零件被打磨了出來。
得心應手地操控著小黑，工業加工方面，衛明不斷創造出精度的極限。
只要先製造出一批精確度達到0.1奈米的“尺子”。
再根據這些尺子，加工所需要的零件，建立一套可參考對照的精準體系。
如果出現累積誤差，就手動修正一番，讓整體的誤差範圍不會超過1奈米。
衛明甚至會親自參與到耗費時間極多的“組裝”過程中，利用小黑的掃描半徑，其他操作手至少得半小時才能裝好的一個零件，他3分鐘內就能實現精確安裝。
並修正了多處地方的安裝誤差。
整個系統的穩定性大大提高。
讓12個精密的子系統，逐漸變成一個能進行精確聯動的大系統。
接下來的半個月。
光刻機研發部，重新整理一個又一個資料記錄，每天都有爆發式的歡呼，從廠房裡發出。
“錫滴釋放頻率每秒5萬次，持續工作33分27秒。”
“每秒5萬次，持續工作38分15秒！”
“每秒5萬次，持續工作47分48秒！”
“每秒5萬次，持續工作59分52秒……接近一個小時，光源系統磨合到完美程度，這是不可能被超越的一個極限！”
不過還有一個極限，不是不能突破。
“既然我們的光源系統穩定性這麼高，索性，我們不做複雜麻煩的‘糾偏系統’算了！再往裡加入一組光源，構成‘雙光源系統’，光刻機正常使用情況下，只讓一組光源進行工作，每次工作半個小時，另一組光源進入休息調整狀態，半小時後接替工作，輪流換班，減少累積誤差。”
“此外這臺機器還有一個‘狂暴模式’，那就是讓兩套光源系統，同時投入工作，每秒10萬粒的錫滴，20萬次的擊打，產生超過1250瓦能量強度的極紫外光，這個光強是艾思邁光刻機250瓦的5倍之高，比普通duv光刻能量也強悍的多。”
“狂暴模式下，這臺光刻機每小時至少能處理600片以上的晶圓，艾思邁他們只能處理125片，我們的效率高出四五倍！”
“而且能量密度越高，光刻出的清晰度、銳利度也越高，這能顯著提高晶片的質量和良率，減少多重曝光次數，更容易實現3奈米晶片的製造，幫助我們從開始的7奈米，越過中間的5奈米，快速過渡到最新的3奈米，實現跳躍式的發展！”
“讓我國的晶片製程工藝，最短時間內追趕上海外最先進水平！”
蒲偉才的技術團隊中，一位名叫羅聰的研究員，提出了一個叫“狂暴模式”的構想。
他這個構想的天才之處，一方面徹底砍掉了“糾偏系統”這個大麻煩。
另一個，“狂暴模式”的種種優勢之處，又令人呼吸加重，眼裡射出精光。
當然，“狂暴模式”也有缺陷，那就是對散熱系統提出了更高的要求，五倍的能量強度，意味著要散去五倍以上的熱量。
蒲偉才簡單計算一番就得出結果：為防止系統過熱，狂暴模式最多隻能持續3~5分鐘，除非每秒鐘用掉1萬升以上的冷卻水，才可能延長些許持續時間。
但就算如此，這個模式依然有巨大的實用價值。
所以包括蒲偉才在內，都支援加入這個模式，再增強系統散熱能力，讓“狂暴模式”至少能持續10分鐘左右。
於是又接下來的半個月。
工廠內的大多數工程師，都圍繞著“雙光源系統”、“狂暴模式”、“加強散熱”而瘋狂忙碌著。
為了加快進度，所有人都主動提出了加班的請求，要求延長工作時間，哪怕沒有加班費。
更有不少人買來了睡袋，累了就躺進去休息幾個小時，連續數天才洗一個大澡。
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